Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴と磁気デバイスへの応用

Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴と磁気デバイスへの応用
Characteristics of Nd-Fe-B/Ta Multilayered Permanent Magnet Thin-films and Their Application to Magnetic Devices
上原 稔*
進 士 忠 彦 **
Minoru Uehara
Tadahiko Shinshi
本論文では,Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴を実用化の観点から議論し,その磁気マイク
ロデバイスへの応用について報告する。Ta と特定の多層構造を持った Nd - Fe - B 基薄膜において,
垂直磁気異方性を有する均一サイズの微細 Nd 2 Fe 14 B 粒子からなる組織が形成されたことにより,
磁石特性と耐熱特性が向上した。この薄膜を用いて 2 種類のデバイスを製作したところ,工業的応
用に有意な特徴が発現した。広いギャップと自己保持機構を備えたスイッチデバイスは RF- スイッチ
への応用が期待され,リニアモータにおいては,永久磁石膜利用による顕著な小型化と 2 G を超え
る加速性が実証された。
This article discusses the characteristics of Nd-Fe-B/Ta multilayered permanent magnet
thin-films, and reports their application to magnetic micro devices. The Nd-Fe-B-based
films having specific multilayered configurations with Ta have demonstrated improved
magnetic properties and thermal stability owing to the microstructure composed of
uniformly-sized fine Nd 2 Fe14 B grains with perpendicular magnetic anisotropy. Two
devices equipped with these thin-films have been fabricated and show interesting features
in industrial applications. The switch device with a large gap and mechanical latch system
is expected to work as an RF-switch. In the linear motor, noticeable miniaturization due to
the use of the thin-film magnets, along with acceleration above 2 G has been verified.
● Key
Word:Nd-Fe-B,薄膜,マイクロデバイス
● R&D
Stage:Development
を開発し,MEMS技術の特長を生かした磁気マイクロデバ
1. 緒 言
イスを実現していくことだと考えられる。
Nd2Fe14B基の焼結磁石1) とボンド磁石2) は,その高い
Nd2Fe14B基の永久磁石の中で,薄膜は永らく潜在的な
磁気エネルギー積によって,これまでに永久磁石を利用す
ポ テ ン シ ャ ル を 発 揮 で き ず に い た が, 先 に 筆 者 ら は,
る機器やデバイスの小型化を牽引してきた。現在もなお,
Nd-Fe-B層とTa層を交互にスパッタリング形成した多層構
携帯端末をはじめとする電子機器の小型・高機能化のトレ
造の永久磁石薄膜を提案し,焼結磁石に匹敵する磁気エネ
ンドは留まることを知らず,こうした機器に使用されるサ
ルギー積を有する薄膜を開発した3),4)。その後,実用化を
ブミリサイズのNd2Fe14B基焼結磁石の需要が増加してい
念頭においた材料開発と並行して,2008年以降,永久磁石
る。
薄膜の応用を掘り起こすため,Nd-Fe-B/Ta多層永久磁石
こうした小型永久磁石を使用するデバイスの中には,こ
薄膜を用いたMEMS磁気デバイスの試作開発にも取り組ん
のところ急速に普及が進んでいるMEMS(Micro-Electro
でいる5)∼7)。
Mechanical Systems)技術を一部に適用し,製造されて
本論文では,材料としてのNd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄
いるものが存在する。しかし,MEMS技術はウェハー単位
膜の特徴を実用化の視点から議論し,その後この薄膜を応
のバッチプロセスが基本であるため,バルク永久磁石のア
用したスイッチデバイスとリニアモータの試作結果を報告
センブリ工程とは相容れ難い。したがって将来的に目指す
する。
べきは,MEMS技術と整合性のとれた薄膜の永久磁石材料
*
**
14
日立金属株式会社 NEOMAX カンパニー
東京工業大学 精密工学研究所
日立金属技報 Vol. 28(2012)
*
**
NEOMAX Company, Hitachi Metals, Ltd.
Precision and Intelligence Laboratory, Tokyo Institute of Technology
Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴と磁気デバイスへの応用
構造を持たない磁石に対して薄膜の金属組織を微細均一
2. Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴
に,高精度で制御できる点にある。これが可能になったこ
2. 1 永久磁石特性
とで,TbやDyといった重希土類金属を添加せずとも,そ
Nd2Fe14B基の永久磁石薄膜は,粉末冶金法における粉砕
れらを使用する焼結磁石に匹敵する高保磁力が発現した。
粒度や磁界中成型,溶湯急冷法での結晶化熱処理や塑性加
図 2 に200 nmのNd-Fe-B層と10 nmのTa層を,全膜厚が
工といった,結晶粒子径や磁化容易軸方向を制御する技術
それぞれ約1 μm(図 2(a))
,および約10 μm(図 2(b))
が見出せず,永らく期待される磁気特性が発揮できなかっ
まで多層化した薄膜の破断面を,高分解能走査電子顕微鏡
た。日立金属は,多層膜構造による組織制御を試み,マグ
で観察した写真を示す。図 2(a)は,Nd2Fe14Bの最大粒
ネトロンスパッタ法により,加熱した基板上にNd-Fe-B/
子径がNd-Fe-B層の膜厚で厳格に制限されていることを示
Ta多層永久磁石薄膜を形成する技術を開発した。この技術
す。また,図 2(b)では,膜厚10 μmというスパッタ法
によって,Nd2Fe14Bの磁化容易方向であるc軸が膜面垂直
では厚膜であっても,制御された均一微細組織が膜全体を
方向に揃った異方性の永久磁石薄膜が得られる。図 1 に
支 配 し て い る こ と が 確 認 で き る。 詳 細 な 検 討 で は,
[Nd-Fe-B(200 nm)/Ta(10 nm)
]×10からなる多層膜
Nd-Fe-B層の膜厚が約500 nm以下になると保磁力と角形性
構造を有した永久磁石薄膜の磁化曲線を示す。ここでは反
の顕著な向上が見られた。この事実から,現実の磁区状態
磁界補正を行っていないが,強い反磁界を受ける膜面垂直
は粒子間の磁気相互作用が考慮されなければならないもの
方向であっても,角型性の良好な減磁曲線が得られてい
の,保磁力向上効果を促す結晶粒子径として,Nd2Fe14Bの
る。この減磁曲線から導出されたNd-Fe-B/Ta多層永久磁
理論上の臨界単磁区粒子径である300 nmが目安として考
石薄膜の永久磁石特性値は,表 1 で比較されているように,
えられる8)。
異方性焼結磁石のそれに匹敵するものであった。
Nd-Fe-B/Ta多層構造の最大の特徴は,周期的に挿入さ
(a)
れるTa層がNd2Fe14Bの結晶成長を遮断するため,多層膜
1.6
Magnetization(T)
1.4
(Out of plane)
1.2
1 μm
1.0
0.8
(b)
0.6
0.4
(In plane)
0.2
0.0
−0.2
−0.4
−0.6
−1.6 −1.4 −1.2 −1.0 −0.8 −0.6 −0.4 −0.2 0.0
0.2 0.4
0.6 0.8 1.0
Applied field (MA/m)
図 1 [Nd-Fe-B(200 nm)/Ta(10 nm)]× 10 多層永久磁石薄
膜の減磁曲線
Fig. 1 Demagnetizing curves of [Nd-Fe-B (200 nm) /Ta (10 nm) ] x10
multilayered permanent magnet thin-film
表1 [Nd-Fe-B(200 nm)/Ta(10 nm)]× 10 多層永久磁石薄膜
の永久磁石特性
Table 1 Permanent magnet properties of [Nd-Fe-B (200 nm) /Ta (10
nm) ] x10 multilayered permanent magnet thin-film
Energy product
(BH)max
Remanent
magnetization
r
Intrinsic
coercivity
CJ
5 μm
図2
Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の破断面の走査電子顕微鏡
写真(膜厚:(a)約 1 μm,(b)約 10 μm)
Fig. 2 Scanning electron micrographs of fractured cross-sections of
Nd-Fe-B/Ta multilayered permanent magnet thin-films with
thickness of (a) about 1 μm, and (b) about 10 μm
多層構造のもう一つの特徴に,Ta層の上にNd-Fe-B層を
形成することで,堆積と同時に結晶化したNd2Fe14Bの磁化
容易軸(c軸)の垂直配向度がより向上することを挙げる
こ と が で き る。 図 3 で,
[Nd-Fe-B(200 nm)/Ta(10
nm)
]×5のX線回折パターンをNd-Fe-B異方性焼結磁石の
ものと比較した。散乱ベクトルの方向は,多層膜が面垂直
方向,焼結磁石が成形時の配向磁場方向である。例えば
kJ/m 3
(MGOe)
T
(kG)
kA/m
(kOe)
Thin-film
[Nd-Fe-B/Ta]
(Thickness:5.8 μm)
364
(45.7)
1.39
(13.9)
1430
(18.0)
の相対強度は,焼結磁石よりも多層膜の方が弱く,多層膜
Sintered Nd-Fe-B
(NEOMAX-48BH)
358∼390
(45∼49)
1.36∼1.42
(13.6∼1.42)
1114
(14.0)
強いc軸配向が残留磁化を従来の薄膜では得られなかった
(105)のように,
(00 l)からずれた指数からの回折ピーク
のc軸がより強く配向していることが示されている。この
水準にまで高め,磁気エネルギー積の向上に導いた。
日立金属技報 Vol. 28(2012) 15
nmから200 nmへと薄くなることで耐熱性が向上してい
(006)
(a)
る。永久磁石の耐熱性を定量化するため,不可逆熱減磁
率が−5%に達する温度を耐熱温度と定義すると,Nd-Fe-B
層の膜厚が200 nmの多層膜の耐熱温度は130℃以上となり,
(004)
その中に150 ℃を超える薄膜も存在している。
(008)
Nd-Fe-B/Ta多層膜の耐熱温度には,焼結磁石やボンド
(105)
磁石と同様に室温での保磁力に対する依存性が認められ
Nd Nd
た。さらに詳細な関係を見るため,多層膜の室温での磁化
(b)
曲線を解析したところ,減磁曲線上に不可逆磁化反転に起
(006)
(105)
因する屈曲が現れる磁界が,耐熱温度に対してより緊密に
(008)
(004)
関係していることが明らかとなった。図 5 は,
[NdFeB
(200
(115) (116)
nm)/Ta(10 nm)
]×25の磁化曲線を解析した例で,ここ
20
30
40
50
60
70
2-theta (degrees)
図 3 X 線回折パターン(a)Nd-Fe-B/Ta 多層膜,(b)Nd-Fe-B
異方性焼結磁石
Fig. 3 X-Ray diffraction patterns (a) Nd-Fe-B/Ta multilayered thin
film, (b) Nd-Fe-B anisotropic sintered magnet
2. 2 耐熱特性 9)
キュリー点が比較的低いNd2Fe14Bが 磁性を担う永久磁
石薄膜において,同じ主相を持った焼結磁石やボンド磁石
で屈曲点に対応した屈曲磁界(
kp)を次式で表される微
分磁化率(χdiff)が立ち上がる磁界として定義した。
(d /d )
(1)
χdiff = μ0−1・
χ diff
(T)
3.2
1.6
2.8
1.4
2.4
1.2
2.0
1.0
χ diff
と同様に,耐熱性の克服が実用化に向けての重要な課題で
1.6
ある。特に垂直磁化膜の場合は,膜が常に強い反磁界にさ
1.2
0.6
らされるため,熱減磁に対する懸念がさらに大きい。そこ
0.8
0.4
で,Nd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜の耐熱性を評価するた
0.4
め,
一層のNd-Fe-B膜厚が 200または 500 nmで,
総膜厚が 1,
2,5 μmなる6 種類と,比較として膜厚1 μmのNd-Fe-B
単層薄膜の不可逆熱減磁率を測定した。ここで,不可逆熱
減磁は,室温で着磁した後に計測した磁化と,同じ試料を
所定の温度まで加熱して1時間保持し,再び室温に戻した
後に計測した磁化の差で定義される。結果を図 4 に示す。
これによると,Nd2Fe14B基の薄膜は,Taと多層膜化するこ
とにより熱減磁が低下し,さらにNd-Fe-B層の膜厚が 500
0.2
CJ
0
0.8
X
kp
X
−0.4
−1.6 −1.4 −1.2 −1.0 −0.8 −0.6 −0.4 −0.2
0
−0.2
0
Applied field(MA/m)
図 5 [NdFeB(200 nm)/Ta(10 nm)]× 25 の減磁曲線( ),
微分磁化率曲線(χdiff)と,保磁力( CJ),屈曲磁界( kp)の
定義
Fig. 5 Demagnetizing (J) and differential susceptibility (χdiff) curves of
[ NdFeB (200 nm) /Ta (10 nm) ] x 25, defining coercivity ( CJ) and
knickpoint field ( kp) , respectively
図 6 は,多層膜の屈曲磁界と保磁力を耐熱温度に対して
Irreversible flux loss(%)
0
プロットしたもので,これから耐熱温度と屈曲磁界との間
に一次相関が成り立っていることがわかる。したがって不
−20
可逆熱減磁は,温度上昇に伴う減磁曲線のシフトによって
動作点が屈曲点を超えることで発生し,多層膜における耐
−40
熱温度の上昇は,結晶粒子径の均一微細化により屈曲磁界
−60
−80
−100
0
:No.1[NdFeB(200nm)/Ta(10nm)]x5
:No.2[NdFeB(200nm)/Ta(10nm)]x10
:No.3[NdFeB(200nm)/Ta(10nm)]x25
:No.4[NdFeB(500nm)/Ta(10nm)]x2
:No.5[NdFeB(500nm)/Ta(10nm)]x4
:No.6[NdFeB(500nm)/Ta(10nm)]x10
(1,000nm)
:No.7 NdFeB
が向上したことが要因と考察できる。また屈曲磁界と耐熱
20
150 ℃を超える耐熱温度は,自動車関連など一部を除く
40
60
80
100 120 140 160 180 200
Temperature (℃)
図 4 Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の不可逆熱減磁率
Fig. 4 Irreversible thermal flux loss of Nd-Fe-B/Ta multilayered
permanent magnet thin-films
16
日立金属技報 Vol. 28(2012)
温度が強い一次相関を有する実験事実は,温度変化の幅に
対する減磁曲線のシフトの度合いが,結晶粒径に依存せず
ほぼ一定であることを意味している。
と,永久磁石を使った現行の応用機器の広い範囲をカバー
する。したがって,Nd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜を応用
することで,小型・高性能に留まらず,信頼性の高い磁気
マイクロデバイスを得られることが期待される。
Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴と磁気デバイスへの応用
ンミリングによって,それぞれ100/100,50/50,20/20
1.6
μmのライン&スペース(L/S)パターンに加工を施した
20 μmの狙い寸法に対しては,−2 μm以下の加工精度が
1.2
CJ
得られた。また,イオンミリング速度は約37 nm/minで,
一般的な金属材料と遜色のない加工能率が確認された。
kp
(MA/m)
ものである。エッジ部も明瞭に加工されており,ライン幅
0.8
CJ
,
図 8 は,イオンミリングによって加工された後の,これ
らの試料の磁化曲線を,加工前の膜と比較して示したもの
kp
0
80
である。L/S幅が狭くなるに伴って残留磁化の低下が見ら
:No.4 ■:No.7
:No.1 :No.5
:No.2 :No.6
:No.3 0.4
100
120
140
160
れるが,先の考察のように,加工後のライン幅が,狙い寸
法に対して少し狭くなったことが影響したとみられる。ア
180
ルゴンイオンミリングによるNd2Fe14B基の薄膜の加工で,
事前に最も懸念されていたのは,イオンの衝撃によって膜
Heat-proof temperature(℃)
の表面に歪や欠陥が生じ,それらが保磁力を低下させるこ
図 6 耐熱温度( kp)と保磁力( CJ),または屈曲磁界(
相関
Fig. 6 Correlation between heat-proof-temperature (
coercivity ( CJ) , or Knickpoint field ( kp)
kp)との
とであった。しかし図 8 によれば,L/S幅が狭まって加工
面の面積が増しても保磁力に悪影響が及ばず,逆に保磁力
kp )
and
が若干向上する結果となった。
Nd2Fe14B基の薄膜に対し,微細加工方法としてのアルゴ
ンイオンミリングの基本的適合性を明らかにした本検討の
2. 3 微細加工性
結果を受け,後述するNd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜を備
永久磁石薄膜を小型・高性能のマイクロデバイスに応用
えたリニアモータの製作工程にこの技術を適用した。そこ
するためには,薄膜の高精度微細加工技術の確立が不可欠
では,
膜厚約6 μmのNd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜に対し,
である。微細加工の方法は,一枚の基板上に多数の素子を
生産適用可能な加工能率で,ミクロンレベルの加工精度が
バッチプロセスにより同時に作製することを可能にする
得られることが確認された。
MEMS技術の適用が望ましい。MEMS技術による微細加
工法には,有機レジスト材などで微細パターンを形成し,
1.2
それを犠牲層として用いるリフトオフ法や,形成した微細
1.0
パターンをマスクとして用いるエッチング法等が知られて
に活性であることに考慮し,この薄膜の微細加工方法とし
て,アルゴンイオンミリングの適用を検討した。
0.8
(T)
いる。筆者らは,Nd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜が化学的
0.6
0.4
図 7 は膜厚 1 μmの単層のNd-Fe-B膜を,アルゴンイオ
non-fabricated
L/S=100/100 μm
L/S=50/50 μm
L/S=20/20 μm
0.2
(a)
(b)
0
−0.2
−0.8
−0.6
−0.4
−0.2
0
0.2
0.4
0.6
0.8
(MA/m)
200 μm
200 μm
(c)
図 8 アルゴンイオンミリングによるライン&スペース加工前後の
Nd-Fe-B 薄膜の減磁曲線
Fig. 8 Demagnetizing curves of Nd-Fe-B thin films before and after
fabrication into line-and-space patterns by argon-ion milling
3. 磁気デバイスへの応用
3. 1 MEMS スイッチ 7)
200 μm
図 7 アルゴンイオンミリングによりライン&スペース(L/S)加
工した Nd-Fe-B 薄膜の光学顕微鏡写真;L/S =(a)100/100
μm,(b)50/50 μm,(c)20/20 μm
Fig. 7 Microphotographs of line-and-space patters of Nd-Fe-B thin
films fabricated by argon-ion milling; L/S = (a) 100/100 μm,
(b) 50/50 μm,(c) 20/20 μm
高周波化が進む携帯電話など無線通信分野のスイッチデ
バイスは,従来の半導体スイッチに替わるものとして,低
損失で高いアイソレーション特性が得やすい機械式スイッ
チの検討が進められており,接点の駆動方法が,静電方式
や永久磁石を用いた電磁方式のMEMSスイッチがこれまで
に商品化されている。原理や構造が比較的簡単な静電方式
日立金属技報 Vol. 28(2012) 17
に対して永久磁石を使った電磁方式のスイッチは,永久磁
と,0.4 Aのコイル電流で閉じた接点は,通電を止めても閉
石と磁性体の静磁気力を利用して,電力を使わずに接点状
状態を保ち,逆電流の通電によって接点が開く。その後通
態を保持できるという特徴を有している。
電を止めた状態でも,200 μmを超える接点間のギャップ
筆者らはかつて,Nd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜を用い
が確保されている。
た片持ち梁アクチュエータを開発し,静電駆動等では困難
こうした,自己保持機構と広いギャップを有するスイッ
な大振幅の変位を得ている5),6)。ここでは,その片持ち梁
チは,永久磁石を用いた電磁駆動式スイッチ固有の特徴で
アクチュエータを利用し,自己保持機構あるいはメカニカ
あり,省消費電力でアイソレーションの高い,高周波帯域
ルラッチングと呼ばれる,電力を消費せず接点状態を保持
のRF-スイッチへの応用が期待できる。現在,そうした用
することが可能なスイッチデバイスの製作を試みた。
途を念頭に置いた開発・評価を進めている。
図 9 に,作製したスイッチデバイスの写真を示す。可動
部は,厚み3 μmのSiN製で,0.4×2.0 mmの片持ち梁とそ
3. 2 リニアモータ
の自由端側に形成した2×2 mmのパドル部で構成される。
永久磁石式のリニアモータは,通常多数個の永久磁石を
この構造は両面にSiN膜を形成した単結晶シリコン基板に
用いるため,小型化が困難な磁気デバイスの一つと考えら
MEMS技術を適用して製作され,片持ち梁が完成した後,
れている。そこで著者らは,ドライエッチングによって微
パドル部に厚み3 μmのNd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜が
細加工したNd-Fe-B/Ta多層永久磁石薄膜の磁気回路を備
ハードマスクを用いたスパッタ法によって形成されてい
えた,マイクロリニアモータの製作を試みた。
る。固定接点側には,可動部とは別の基板に,線径0.25
完成したリニアモータの写真を図11に示す。今回試作し
mmのCu線を接着することで励磁コイルが形成されてい
たリニアモータは,可動部に配線が不要な,スライダに永
る。さらに固定接点側には,永久磁石膜に対して自己保持
久磁石を備えたムービングマグネットタイプとした。それ
に必要な吸引力を発生させるための厚さ 5 μm,2×2 mm
は,スライダ,ガイド,Cu製平面コイルを形成した固定子
のNi箔が配置されている。可動接点と固定接点がそれぞれ
から構成される(図11(a))
。本試作の目的が,永久磁石
作り込まれた2つの基板は,接点間のギャップが計算で得
薄膜を用いたマイクロリニアモータの動作検証であること
た設計値となるよう,スペーサを挟んで接合されている。
から,コイルは,構造が単純なミアンダ型空芯コイルとし
た。その製作は,石英ガラス上にスパッタ形成したCu膜を,
レーザー加工機でパターニングすることにより行った。Cu
製コイルは膜厚3 μm,線幅160 μm,ライン間のピッチ
を400 μmとした。同様の理由から,ガイドも簡便に高精
度が得られるAl合金の機械加工によって製作した。スライ
ダは,最終寸法が4×4×t 0.26 mmの単結晶シリコン製で,
コイル対向面には,マグネトロンスパッタで形成した膜厚
1 mm
6 μmのNd-Fe-B/Ta永久磁石多層薄膜を,ライン&スペー
図 9 試作したマイクロスイッチ
Fig. 9 Fabricated micro-switch
ス間隔が0.4 mmになるようにアルゴンイオンミリングで加
(a)
図10にコイルに流した励磁電流と,それに伴った可動接
点の動きを変位センサで計測した結果を示す。これを見る
400
OFF
0.6
ON
ON
OFF
300
Coil current (A)
(OA)
0.4
200
0.2
100
0
0
−0.2
−100
−0.4
−200
Coil current
Displacement
−0.6
−0.8
0
2
Displacement(μm)
0.8
(b)
(c)
−300
4
6
8
−400
Time (s)
図 10 コイル電流と可動接点の変位の関係
Fig. 10 Relationship between coil current and displacement of the
moving contact
18
10 mm
日立金属技報 Vol. 28(2012)
2 mm
2 mm
図 11 完成したリニアモータ(a)全体,(b)スライダ表面,(c)
スライダ裏面
Fig. 11 Photographs of the fabricated linear-motor (a) over-all view,
(b) front-side and (c) reverse-side views of the slider
Nd-Fe-B/Ta 多層永久磁石薄膜の特徴と磁気デバイスへの応用
工し,配置した(図11(c))
。摺動面はスライダの側面に
5. 謝 辞
設けられており,ここにガイドにはめ込むためのV字溝を,
単結晶シリコンのKOHによる異方性エッチングを利用して
東京工業大学大学院生の田辺亮氏,同じく石橋正登氏に
形成した。
は,デバイスの製作と評価についてご協力をいただいた。
図12に製作したリニアモータにおいて,コイル電流を約
ここに記して謝意を表する。
1.5 A流した際のスライダの変位の計測結果と,その変位を
なお,本研究の一部は,独立行政法人科学技術振興機構
時間微分して導出した速度を示す。ガイドの始端から終端
のシーズイノベーション化事業顕在化ステージ,および研
に至るストローク30 mm以上の駆動が確認され,最大速
究成果最適展開事業A-STEPの支援を受けて行われた。 度 1 m/s以上,加速度26.0
m/s2が得られた。また,別途,
駆動に必要な最小のコイル電流を調査したところ,およそ
引用文献
0.5 Aの値が得られ,
その際の加速度は 5.7 m/s 2 であった。
これらの結果から,製作したリニアモータの諸元として,
電流1 A当たりの推力が約 200 μN,スライダの静止摩擦
係数が 1.0,動摩擦係数が0.5という値が導かれた。
今回,動作検証を目的としたNd-Fe-B/Ta多層永久磁石
薄膜を用いたリニアモータの試作で,2 Gを超える加速性
が実証された。今後は,さらに位置検出機構の組込,摺動
摩擦の低減,小型化などの課題に取り組み,デバイスの完
35
1,400
30
1,200
25
1,000
20
800
15
600
10
400
5
200
Displacement
0
Velocity
−5
0
5
10 15
Velocity(mm/s2)
Displacement(mm)
成度を高めていく予定である。
1 )M.Sagawa, S.Fujimura, M.Togawa, H.Yamamoto and
Y.Matsuura: J.Appl. Phys.,55(1984)2083.
2 )J. J. Croat,J. F. Herbst,R. W. Lee and F. E. Pinkerton:
J. Appl. Phys.,55(1984)2079.
3 )M . Ueha ra : J. Mag n. S oc. Jpn., 28(2004)1043.(in
Japanese)
4 )M. Uehara, N. Gennai, M. Fujiwara, and T. Tanaka:
IEEE Trans. Magn.,41(2005)3838.
5 )後藤駿治,Sen Yao,進士忠彦,櫻井淳平,上原稔,山本
日登志 : 第 17 回 MAGDA コンファレンス講演論文集,日本
AEM 学会(2008),p.75.
6 )S. Yao,S. Goto,J. Sakurai,T. Shinshi,M. Uehara and
H. Yamamoto: Proc. IEEE-NEMS(2009),p.411.
7 )石橋正登,田辺亮,進士忠彦,上原稔:第 22 回「電磁力
関連のダイナミクス」シンポジウム講演論文集,日本機械学
会(2010),p.704.
8 )J. D. Livingston: J. Appl. Phys.,57(1985)4137.
9 )M. Uehara,and H. Yamamoto: J. Magn. Soc. Jpn.,33
(2009)227.(in Japanese)
0
−200
20 25 30 35 40 45 50 55 60
Time(ms)
図 12 スライダの変位と速度
Fig. 12 Displacement and velocity of the slider
上原 稔
Minoru Uehara
日立金属株式会社
NEOMAX カンパニー
磁性材料研究所
4. 結 言
本論文では,日立金属が開発したNd-Fe-B/Ta多層永久
磁石薄膜の高い永久磁石特性と耐熱特性の起源を,この薄
膜材料固有の微細組織との関連で議論し,多層膜構造化に
進士 忠彦
Tadahiko Shinshi
東京工業大学
精密工学研究所 教授
博士(工学)
伴うNd2Fe14B 結晶の微細均一化に発することを明らかに
した。また,薄膜の実用化に必要な微細加工方法としてア
ルゴンイオンミリング法を検討し,デバイス試作への適用
例を報告した。さらに,上記永久磁石薄膜を応用した2種
類のデバイスを製作し,広いギャップと自己保持機能を備
えたMEMSスイッチには,RF−スイッチへの応用が期待
され,リニアモータにおいては高加速性が実証された。今
後も,実用化を念頭に置いた永久磁石薄膜材料の研究開発
を進めるとともに,それを利用した磁気デバイスの提案を
行っていく所存である。
日立金属技報 Vol. 28(2012) 19