AN58815 Advantages of 65-nm Technology over 90-nm Technology QDR Family of SRAMs (Chinese).pdf

AN58815
与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
作者:Jayasree Nayar
相关项目:无
相关器件系列:CY7C13xxKV18、CY7C14xxKV18
CY7C15xxKV18、CY7C25xxKV18、CY7C16xxKV18、CY7C26xxKV18
软件版本:无
相关应用笔记:AN42468、AN54908
本应用笔记概述了从 90 nm 技术 QDR® SRAM 器件移植到 65 nm 技术 QDR® SRAM 器件的好处。
简介
概述
与 90 nm 技术系列相比,65 nm 技术 QDR 器件系列的优点
很显著。本应用笔记介绍的是从 90 nm 器件移植到 65 nm
器件的指南及其优点。
表 1 加亮部分显示的是 65 nm 和 90 nm QDR 器件系列的
各特性,以及这两种器件系列之间的区别。
表 1. 65 nm 和 90 nm QDR 器件系列各自的特性
QDR II
DDRII
DDRII
SIO
QDRII+
QDRII+
DDRII+
DDRII+
DDRII+
SIO
DDRII+
SIO
读延迟 — 90 nm 和 65 nm
1.5
1.5
1.5
2
2.5
2
2.5
2
2.5
写延迟 — 90 nm 和 65 nm
1
1
1
1
1
1
1
1
1
65 nm
333 MHz
333 MHz
N/A
450 MHz
550 MHz
450 MHz
550 MHz
N/A
N/A
90 nm
300 MHz
300 MHz
N/A
400 MHz
450 MHz
400 MHz
450 MHz
N/A
N/A
65 nm
48 Gbps
24 Gbps
N/A
64 Gbps
80 Gbps
32 Gbps
40 Gbps
N/A
N/A
90 nm
44 Gbps
22 Gbps
N/A
58 Gbps
64 Gbps
29 Gbps
32 Gbps
N/A
N/A
Idd — 有效电流[2 4] (突发长度
为 4)
65 nm
850 mA
510 mA
N/A
1100 mA
1310 mA
630 mA
740 mA
N/A
N/A
90 nm
1040 mA
900 mA
N/A
1300 mA
1475 mA
950 mA
1050 mA
N/A
N/A
Iddq — I/O 切换
,
电流[3 4] (突发长度为 4)
65 nm
90 mA
90 mA
N/A
120 mA
150 mA
120 mA
150 mA
N/A
N/A
90 nm
80 mA
80 mA
N/A
110 mA
120 mA
110 mA
120 mA
N/A
N/A
65 nm
90 nm
频率(突发长度为 4)
带宽[1](突发长度为 4)
,
1
65 nm 和 90 nm
最大带宽 = 最大频率 x 数据速率 x 最大总线宽度 x 端口数量
2
上面指定的有效电流(以用于比较目的)是 72M QDRII/DDRII/QDRII+/DDRII+ SRAM 的值。请访问下面的链接,参考其他密度 SRAM 的有效电流(Idd)相关产品数据手册:
http://www.cypress.com/?id=95
3
上面指定的 I/O 切换电流用于进行比较。这些值都是根据 1.5 V Vddq、5 pF 加载电容、36 个开关 I/O 以及上面所述的最高频率得到。
4
要想计算 SRAM 的总功耗,请参考下面路径中介绍的工具:http://www.cypress.com/?docID=23984
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1
与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
表 1. 65 nm 和 90 nm QDR 器件系列各自的特性
QDR II
DDRII
DDRII SIO
QDRII+
QDRII+
DDRII+
DDRII+
DDRII+
SIO
DDRII+
SIO
65 nm
333 MHz
333 MHz
333 MHz
333 MHz
333 MHz
450 MHz
550 MHz
450 MHz
550 MHz
90 nm
300 MHz
300 MHz
300 MHz
300 MHz
300 MHz
400 MHz
450 MHz
N/A
N/A
65 nm
48 Gbps
24 Gbps
24 Gbps
48 Gbps
48 Gbps
32 Gbps
40 Gbps
64 Gbps
80 Gbps
90 nm
44 Gbps
22 Gbps
22 Gbps
44 Gbps
44 Gbps
29 Gbps
32 Gbps
N/A
N/A
65 nm
990 mA
640 mA
640 mA
990 mA
990 mA
820 mA
970 mA
820 mA
970 mA
90 nm
1215 mA
1020 mA
980 mA
N/A
1150 mA
1420 mA
1420 mA
N/A
N/A
65 nm
90 mA
90 mA
90 mA
90 mA
90 mA
120 mA
150 mA
120 mA
150 mA
90 nm
80 mA
80 mA
80 mA
N/A
80 mA
110 mA
120 mA
N/A
N/A
65 nm
4 pF/4 pF
4 pF/4 pF
4 pF/4 pF
4 pF/4 pF
4 pF/4 pF
4 pF/4 pF
4 pF/4 pF
4pF/4 pF
4 pF/4 pF
90 nm
5.5 pF/6 pF
5.5 pF/6 pF
5.5 pF/6 pF
5 pF/7 pF
5 pF/7 pF
5 pF/8 pF
5 pF/8 pF
N/A
N/A
频率(突发长度为 2)
带宽[1](突发长度为 2)
[2, 4]
Idd — 有效电流
(突发长度
为 2)
, 4]
Iddq — I/O 开关电流[3
长度为 2)
(突发
输入/输出电容[5]
输出数据(C,C#) — 90 nm 和 65 nm
有
无
QVLD(有效输出数据指示器) — 90 nm 和 65 nm
无
有
ODT (片内终端) — 仅适用于
65 nm。不可用于 90 nm。
无
有
65 nm
18 Mb、36 Mb、72 Mb 和 144 Mb
90 nm
18 Mb、36 Mb、72 Mb
容量
组织(总线宽度) — 90 nm 和 65 nm
x9、x18、x36
VDD (内核) — 90 nm 和 65 nm
1.8 V ± 0.1 V
VDDQ (I/O) — 90 nm and 65 nm
1.8 V ± 0.1 V 或 1.5 V ± 0.1 V
SER (FIT/Mb)[6]
单比特逻辑错误
(LSBU)—
65 nm
单比特逻辑错误
(LSBU)—
90 nm
多比特逻辑错误
(LMBU) —
90 nm 和 65 nm
85 °C 时为 216
85 °C 时为 368
85 °C 时为 0.01
SEL( FIT/Dev) — 90 nm 和 65 nm
时钟生成和锁定时间
85 °C 时为 0.1
锁相环(PLL) —
65 nm[7]
延迟锁定回路(DLL)
— 90 nm
有(PLL 锁定时间):20 µs [8]
有(DLL 锁定时间):QDRII/DDRII 为 1024 个时钟周期和 QDRII+/DDRII+为 2048 个时钟周期
随路时钟(CQ、CQ#)
有
PKG — 90 nm 和 65 nm
165 球形焊盘 FBGA
65 nm
90 nm
65 nm 和 90 nm
5
上面指定的各电容值(以用于比较目的)是 72M QDRII/DDRII/QDRII+/DDRII+ SRAM 的值。
请访问下面的链接,参考其他密度 SRAM 的电容的相关产品的数据手册:http://www.cypress.com/?id=95
6
欲了解更多详细信息,请参考应用笔记 AN54908“加速中子 SER 测试和地面故障率的计算”的内容
7
PLL 锁定时间为 20 µs 是 QDR 联盟定义的规范。赛普拉斯的 65 nm QDR 器件系列与 90 nm QDR 器件系列向后兼容。这是因为这两种器件系列的 PLL 锁定时间都满足 QDRII 或 DDRII 器件
(1024 个时钟周期)和 QDRII+或 DDRII+器件(2048 个时钟周期)的要求
8
时钟周期数量 = 频率 x 20 µs
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2
与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
改进有效数据窗口
65 nm 计数器件的优点
更高的工作频率
65 nm 技术器件能够以更高的工作频率(550 MHz)运
行,并且总数据速率可达 80 Gbps1。与 90 nm QDR 器件
系列(最大频率可达 450 MHz)相比,65 nm 器件系列显
著提高了带宽(~25%)。这样能够满足网络应用要求的更
高带宽。
功耗更低
与同等的 90 nm 技术 QDR 器件相比,65 nm 技术 QDR 器
件的功耗更低。情况最差时,仍可以节省~30%的功耗。
与 90 nm QDR 器件相比,65 nm QDR 器件将输出的有效
数 据 窗 口 宽 度 提 高 了 21% 。 此 改 进 通 过 使 用 锁 相 环
(PLL)生成的低抖动时钟实现,而不是通过使用 90 nm
技术器件中的延迟锁定回路(DLL)实现。PLL 对输入滤波
器进行滤波,并纠正各输入的所有占空比失真。通过改进后
的有效数据窗口可以得到 65 nm 技术器件的时序容限的最
佳状态。
图 1 显示的是工作频率为 500 MHz 时,90 nm QDRII+和
65 nm QDRII+器件的有效数据窗口的比较情况。如该图所
示,65 nm QDRII+器件显著提高了它的数据窗口的宽度
(~21%)。
图 1. 有效数据窗口的比较(从实验中获取)
提高信号完整性
低输入/输出电容
65 nm 技术 QDRII+或 DDRII+器件具有一个片内终端,用
于各输入,如数据输入、字节写信号和输入时钟
(K/Kb)。但 90 nm 技术的 QDRII+或 DDRII+器件中没有
该特性。由于片内终端不需要使用外部终端电阻,因此它能
够提高信号的完整性,从而简化电路板的布线,并降低成
本、电路板面积和外部电阻的功耗。更多有关片内终端的详
细 信 息 , 请 查 看 应 用 笔 记 AN42468—QDRII+/DDRII+
SRAM 的片内终端。
与 90 nm 器件系列相比,65 nm QDR 器件系列的输入和输
出电容降低了~50%。这样能够降低回波损耗,从而降低输
入的反射或中断。更小的电容也会使输入的交流功耗变低。
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与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
更低功耗和结温计算
功耗(Pd)
使用下面的公式计算功耗:
Pd = 内核功耗 + I/O 开关功耗
Pd = VDD IDD + α f CL VDDQ2 N
其中:
VDD = 内核电压
IDD = 工作电流
α = 活动因子,或者是输出的切换频率与时钟频率之间的比例
f = 工作频率
CL= 外部负载电容
VDDQ = I/O 电压
N = 正在切换的 I/O 的数量
表 2 显示了与 90 nm 器件相比 65 nm 器件所具有的优质额定功率。
表 2. 65 nm 与 90 nm QDR-II+器件之间的功耗比较
65 nm QDR-II+ SRAM (18 Mb)
90 nm QDR-II+ SRAM (18 Mb)
CY7C1165KV18-400BZC
CY7C1165V18-400BZC
VDD = 1.8 V
VDD = 1.8 V
IDD = 850 mA
IDD = 1080 mA
α=1
α=1
f = 400 MHz
f = 400 MHz
CL= 5 pF
CL= 5 pF
VDDQ = 1.5 V
VDDQ = 1.5 V
N = 36
N = 36
因此:
因此:
Pd = VDD IDD + α f CL VDDQ N
Pd = VDD IDD + α f CL VDDQ2 N
Pd = 1.8 V x 850 mA + 1 x 400 MHz x 5 pF x (1.5 V) 2 x 36
Pd = 1.8 V x 1080 mA + 1 x 400 MHz x 5 pF x (1.5 V )2 x 36
总功耗 = 1692 mW
总功耗 = 2106 mW
2
结温(TJ)
使用下面的公式计算结温:
TJ = Pd θJA + TA
其中:
θJA 为结温热阻抗
TA 为环境温度
Pd 为功耗
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与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
表 3 显示与 90 nm 器件相比,65 nm 器件具有更低的结温。
表 3. 65 nm 与 90 nm QDR-II+器件间的结温(TJ)比较
65 nm QDR-II+ SRAM (18 Mb)
90 nm QDR-II+ SRAM (18 Mb)
CY7C1165KV18-400BZC (165 BGA)
CY7C1165V18-400BZC (165 BGA)
θJA = 18.96 °C/W
θJA = 17.2 °C/W
TA = 60 °C
TA = 60 °C
Pd = 1692 mW
Pd = 2106 mW
因此:
因此:
TJ = Pd θJA + TA
TJ = Pd θJA + TA
TJ = (1692m x 18.96) + 60
TJ = (2106m x 17.2) + 60
结温 = 92.08 °C
结温 = 96.22 °C
总结
65 nm 技术 QDR 器件系列提供的性能更好和带宽更大,几乎不需要对现有的电路板进行任何修改。与 90 nm 技术器件相比,它
降低了功耗、输入/输出电容,改进了有效数据窗口,并通过使用片内终端器件提供了更好的信号完整性。
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与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
文档修订记录
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版本
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与 90 nm 技术 QDR® SRAM 系列相比 65 nm 技术的优势
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