カタログ

2016年度版
オプティカル
ゲージ
Optical Gauge シリーズ
オプティカルナノゲージ
オプティカルマイクロゲージ
Optical NanoGauge 膜厚計 / Optical MicroGauge 厚み計
Optical NanoGauge
C13027
C11295
P6
極薄膜測定
高速測定対応
C10178
P14
基礎研究用
機能拡張タイプ
多点測定
10 nm
20 nm
20 nm
P12
ガラス
100 μm
ガラス
100 μm
50 μm
ガラス
0.5 μm
300 μm
ガラス
25 μm
ガラス
2900 μm
サンプル厚さ
1 μm
100 nm
100 μm
10 μm
Optical NanoGauge
C10323
ミクロ計測
顕微タイプ
P16
1 mm
Optical MicroGauge
C12562
装置組み込み
1Boxタイプ
P10
C11011
P18
厚膜対応
高速測定
※本カタログでは、ガラスの屈折率を1.5、シリコンの屈折率を3.67としています。
ロールtoロール工程での設置例
塗 布 装 置 向 けインライン計 測 設 置 例
Multipoint NanoGauge 膜厚計
C11295
Optical MicroGauge厚み計
C11011
Optical NanoGauge 膜厚計
C12562/C13027
塗布膜測定
断裁 巻取り
樹脂、接着層、ITO、ウェット膜
乾燥・貼り合わせ後の測定
乾燥・硬化
巻出し
塗布・成膜(PVD/CVD)
フィルム厚、中間膜、総厚
真 空 成 膜 装 置 向 けインライン計 測 設 置 例
Multipoint NanoGauge 膜厚計
C11295
フランジ
反射率・透過率測定
色度測定
フィルム厚管理
蒸着膜(PVD/CVD)
最大15ポイント
真空チャンバ
ITO、SiOx、NbO
両面測定
ライトガイドの途中にフランジを設けて、チャンバ内と接続します。チャンバ
内に設置できるライトガイドは、最大15本で長さは3 m以下になります。
※詳細はお問い合わせください。
真空条件
透過測定も可能
・真空度:10 -5 Pa
・環境温度:+80 ℃以下
※真空中のファイバの曲げ半径は、
R100 mm以上になります。
Optical Gauge シリーズは、デフォーカス依存性・角度依存性に優れ
設置時に以下のようなメリットがあります。
● 計測システム設計が簡単
角度変動
コスト
低減
● メンテナンス後の復帰時間が短い
デフォーカス
● 調整治具が不要
デフォ−カス依存性
角度依存性
700 nm SiO2 測定例
700 nm SiO2 測定例
●基準点に対して±3 mm
(1 mmピッチ)
のデフォ−カス依存性、基準点のWD 10 mm
位置
Optical NanoGauge
標準的な膜厚測定器
-3 mm
701.59 nm
698.39 nm
-2 mm
701.63 nm
699.92 nm
-1 mm
701.66 nm
701.13 nm
基準点
701.65 nm
702.37 nm
+1 mm
701.66 nm
703.51 nm
+2 mm
701.67 nm
704.74 nm
+3 mm
701.65 nm
705.91 nm
変動量(nm)
●基準点に対して0°
∼5°
の角度依存性、基準点のWD 10 mm
角度
3
2
1
高さ移動量
(mm)
0
-3
-2
-1
0
-1
1
2
3
Optical NanoGauge
標準的な膜厚測定器
8
0°
702.23 nm
702.47 nm
6
3°
702.29 nm
703.70 nm
4
5°
702.62 nm
709.38 nm
変動量(nm)
2
0
-2
0°
3°
-2
Optical NanoGauge
-3
標準的な膜厚測定器
5°
入射角度
Optical NanoGauge
標準的な膜厚測定器
±3 mmのデフォーカス
(高さ移動)
において
変動値 0.1 nm以下
(標準的な膜厚測定器では、8 nm程度の変動)
0°
∼5°
までの角度変動量において
変動値 0.39 nm
(0.047 %)
(標準的な膜厚測定器では、5 nm以上の変動)
3
各製造現場での設置紹介
Optical Gaugeシリーズは、多種多彩な製造現場の各工程で使用することができます。
フィル ム 製 造 前 工 程
フィルム
原材料溶解
流延
縦延伸
横延伸
熱処理・巻取り
高機能フィルムは、
液晶ディスプレイや二次電池、
ソーラーパ
ネルなど、
先端工業において必要不可欠になっています。その
性能と生産性を向上させるために、
浜松ホトニクスは、
各種検
査装置をラインアップしています。
C11011
タッチパネル
C11011
C11011
C11011
C12562
C12562
C11011
ガラス製 造 工 程 ( 静 電 容 量 方 式 )
原版受入
エッチング
ITOパターニング
裏面ITOパターニング
周辺回路作成
スマートフォンをはじめ、
タブレット型端末・デジタルカメラの背
面液晶・先端ゲーム機など最近注目を集めるデジタル製品は、
タッチパネルへの対応がキーとなっています。タッチパネル
の検出方式は様々ですが、
ここでは投影型静電容量方式で
C13027/C11295
C11011
の製造工程を紹介し、その工程で使用されているOptical
C13027/C11295
C13027/C11295
Gaugeシリーズをご案内します。
半導体デバイス
ウェ ー ハ 製 造 工 程
インゴット
引き上げ
前工程
インゴット
切断
ウェーハ研磨
フォトレジスト
塗布
ウェーハ表面
を酸化
露光
パターニング
イオン
注入
エッチング
Optical Gaugeシリーズは、
多層化するメタル配線やプロ
セスの微細化・低電圧化が進む半導体デバイス製造工程の
様々な製造工程で使用され、歩留り向上やプロセス立ち上
げ期間の短縮に貢献しています。
C13027/C11295
C13027/C11295
ウェーハ平坦化
酸化・拡散・成膜
繰り返し
繰り返し
C11011
洗浄
C13027/C11295
二次電池
源泉
電 極コイル 捲 回
塗工
リチウムイオン電池など二次電池の製造分野は、パソコ
ロールプレス
粉砕/混合
スリッター
ン・携帯電話での実績に加え、EV・ハイブリット自動車の
セパレータ
乾燥
乾燥
開発にあわせ、急速に需要を伸ばし、より効率の良い製
品の研究開発が進められています。Optical Gaugeシリ
ーズは、二次電池の製造過程の多岐にわたる工程で使
C10178
用することができ、お客様のタクトタイムの短縮に貢献
C11011
C10178
赤外対応モデル
C11011
C10178
赤外対応モデル
C11011
赤外対応モデル
します。
アレイ工程
FPD
カラーフィルタ工程
ガラス基板
成膜
レジスト塗布
洗 浄
検査・リペア
カラーフィルタ基板
製造工程
配向膜塗布
ラビング
エッチング
Optical Gaugeシリーズは、液晶・LED・有機EL・VFD蛍
光表示管・プラズマディスプレイなどFPD(フラットパネルディ
スプレイ)の製造過程の多岐にわたる工程で使用することが
可能です。
C11011
C13027/C11295
C10323
C13027/C11295
透過測定対応モデル
太陽電池
結 晶 シ リコ ン 系 太 陽 電 池 製 造 工 程
シリコンインゴット
シリコンスライス
テクスチャー形成
反射防止膜形成
電極形成
熱焼結
Cu-Ga膜形成
In膜形成
太陽光発電は、温室効果ガス排出量を削減できるなど
の特長により成長産業として発展を続けています。また、
発電に使用される太陽電池モジュールの変換効率を上げ
るため の 研 究 が 各 社 で 進 められて います 。O p t i c a l
C13027/C11295
C11011
Gaugeシリーズは、太陽電池モジュール製造過程の多岐
にわたる工程で使用することができます。
CIGS太陽電池製造工程
ガラス基板
C11011
4
洗浄
Mo 電極形成
パターニング
フィル ム 製 造 前 工 程
フィルム
塗布前処理
塗布
■ コーティングフィルム
■ プラスチックフィルム
■ 物体色測定
乾燥・硬化
巻出し
裁断・巻取り
C11011
C13027/C12562/C11295
C11011
C12562
C12562
ガラス製 造 工 程
・AR膜・PET・コーティング層・PE・PMMA
・塗布膜・蒸着膜・機能性フィルム・Agナノワイヤー
・アクリル樹脂・ビデオヘッド
製品製造工程 (静電容量方式)
ヒート
シール
エッチング
カバーガラス
貼り合わせ
周辺回路作成
半導体
検査
■ 半導体ウェーハ上膜
■ 薄膜測定
C13027/C11295
C11011
C12562
フレキシブルプリント基板
後工程
ウェーハ
検査
電極形成
ウェーハ
ダイシング
ウェーハ
薄片化
ワイヤー
ボンディング
・SiO2・SiC膜・Si膜・TiO2 等金属酸化膜
・窒化膜・ウェット状態の膜・レジスト膜 ・シリコン残膜厚・光ディスク・DLC・カーボン
製品検査
モールド
テスター
多点同時計測
■ 多チャンバ同時膜厚測定
■ APCのIn-line/In-situ膜厚測定
ステルス
ダイシング
C11011
C11011
C12562
組立工程
検査工程
微小領域ミクロ計測
スタッキング
充放電
■ パターン付半導体
■ パターン付FPD
■ MEMS
仕分け
セル工程
・TiO2等金属酸化膜
・フィラー入りフィルム
・レジスト膜・酸化膜・窒化膜
モジュール工程
配向膜塗布
スペーサ散布
貼り合わせ
シール材
塗布
封止
偏光板貼り付け
バックライト装着
点灯検査
FPD
液晶注入
■ FPDパネルの膜厚/色測定
C13027/C11295
C11011
封止
品質管理・検査
・セルギャップ・有機EL膜・配向膜・TFT・Agナノワイヤー
・ガラス基板のITO、MgO、
レジスト膜
・ポリイミド
・FPD用高機能フィルム・カラーフィルム
モジュール化
マッピング測定
In-situ測定
■ 成膜プロセスモニタ
■ ドライ/ウエットエッチング測定
C13027/C11295
プロセス
供給ガス
CIGS膜形成
Cdsバッファ層形成
パターニング
透明電極形成
パターニング
封止
品質管理・検査
成膜
プロセス
プロセス排ガス
・SiO2・Si膜 等金属酸化膜
C13027/C11295
C13027/C11295
5
Optical NanoGauge 膜厚計 C13027
シーケンサ接続に対応し、製造装置組み込みを容易にした新モデル
極薄膜測定
高速測定対応
Optical NanoGauge 膜厚計 C13027は、
分光干渉法を利用した非接触
の膜厚測定装置です。
シーケンサ接続や膜厚と色の同時計測機能に加え、
装
置組み込みを容易にするために、従来製品に比べ小型化を実現しました。
Optical Gaugeシリーズでは最も薄い10 nmの極薄膜測定に対応するこ
とができます。
また、
10 nm∼100 μmと幅広い膜厚測定範囲の対象に適
応します。さらに、
最速200 Hzの高速測定も可能なため、
高速ラインでの測
定にも対応することができます。
10 nm
対応
測定範囲
100 μm
ガラス
1 μm
100 nm
10 μm
100 μm
1 mm
10 nm∼100 μmの薄膜を高速測定
特長
①
特長
②
特長
③
特長
④
特長
⑤
特長
⑥
シーケンサ接続に対応
タクトタイムを短縮(最速200 Hz)
10 nmの薄膜測定に対応
膜厚と色の同時計測可能
小型化(設置面積比30 %減 : C12562と比較)
広波長対応(400 nm∼1100 nm)
仕 様
型名
C13027-11
測定膜厚範囲(ガラス)※1
10 nm∼100 μm
測定再現性(ガラス)※2※3
0.02 nm
測定精度※3※4
光源
±0.4 %
ハロゲン光源
測定波長範囲
400 nm∼1100 nm
スポットサイズ※3
約φ1 mm
ワーキングディスタンス※3
10 mm
測定可能層数
解析
最大10層
FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析、色解析
計測時間※5
外部通信インターフェース
出力信号 アナログ出力
3 ms/point
RS-232C 及び Ethernet
0 V∼10 V/ハイインピーダンス 3チャンネル(最大3層)
アラーム出力
TTL/ハイインピーダンス 1チャンネル
ワーニング出力
TTL/ハイインピーダンス 1チャンネル
入力信号 計測開始信号
TTL/ハイインピーダンス 1チャンネル
電源電圧
AC100 V∼240 V、50 Hz/60 Hz
消費電力
約80 VA
ライトガイドコネクタ形状
※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。 ※2 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。
※3 使用する光学系または対物レンズの倍率による。
※4 VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。 ※5 最短露光時間。
6
FC
特長
⑦
特長
⑧
特長
⑨
特長
⑩
特長
⑪
ソフトウエアに簡易計測を搭載
両面解析が可能
高さ変動に強い
光学定数(n、k)解析
マッピングに対応
構成例
C13027 標準システム
(オフライン)
標準構成
オプション
C13027 標準システム
(インライン)
標準構成
オプション
Optical NanoGauge 膜厚計
C13027
装置制御PC
膜厚計測
ソフトウエア
RS-232C/Ethernet
膜厚計測
ソフトウエア
サンプル
対象物
サンプルステージ
Optical NanoGauge 膜厚計
C13027
エッチング装置
成膜装置などの製造装置
データ解析モジュール
M11698
オプション
□ サンプルステージ Optical NanoGauge用
A10192-10
□ データ解析装置 ノート型 C10471-21
ノート型のデータ解析装置を用意しています。
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステー
ジです。集光機能はありません。従来品の
A10192-04をペンタイプにして、サンプルを見
やすくしたモデルです。
WD:約10 mm 測定スポット径:φ1 mm
従来品のA10192-04も用意しています。
(P11参照)
□ マッピングステージ φ200 mm C8126-31
マッピングステージ φ300 mm C8126-32
□ サンプルステージ FC型 可視用集光レンズタイプ
A10192-05
● 計測時間:2 s/point
● 測定エリア :最大140 mm角(C8126-31)
<4インチ∼8インチ>
:最大200 mm角(C8126-32)
<4インチ∼12インチ>
● ステージ移動分解能 : 0.1 mm
● ステージ繰り返し位置決め精度:±0.01 mm
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージ
です。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。
WD:約35 mm 測定スポット径:φ1.5 mm
□ データ解析モジュール
M11698
□ 集光光学系 FC型 可視用
A10191-03
モニタ、マウス、キーボードのみのユニットです。
A10192-05の集光レンズ部のみのユニットです。
WD:約35 mm 測定スポット径:φ1.5 mm
□ FCレセプタクル A12187-02
□ 膜厚計測ソフトウエア 両面解析 U12708-01
架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。
両面解析に対応したソフトウエアです。
□ ランプユニット L12839-01
C13027及びC12562用の交換用ランプユニットです。
外形寸法図
(単位:mm)
6
123.51
■ 本体(約4.7 kg)
333±1
202±1
■ サンプルステージ Optical NanoGauge用 A10192-10
■ 2分岐ライトガイド
※ファイバの曲げ半径は、R75 mm以上になります。
10±1
75±1
150±1
130±1
Φ10
FCコネクタ
Φ12
8±1
148 ±1
D95Pコネクタ
Φ20
SUS可とう管
+50
200 −0
280±1
+200
5000 −0
7
測定原理
膜厚測定には、分光干渉法を採用。
薄膜サンプルに白色光を入射すると、膜内部で多重反射が起こります。この多重反射光は、互いの位相差に応じて強めあったり弱めあったりします。各
多重反射光の位相差は、光の波長と光路長(=薄膜内で光が往復する距離×膜の屈折率)によって決まります。このため、サンプルからの反射または透
過スペクトルは、膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。分光干
渉式膜厚測定装置では、カーブフィッティング法とFFT(高速フーリエ変換)をアプリケーションにより使い分けて解析することができます。
厚みがあると、山谷の数が増加します。また、横軸を波長とした場合は、短波長側の間
隔は長波長側の間隔よりも短くなります。
反射光
位相差
入射光
膜厚小
強度
波長
強度
波長
山谷の数が増加
膜
強度
基板
膜厚大
波長
膜厚が1 μm以下の膜厚測定に有効
カーブフィッテイング法による解析
■ 透明電極 ITO膜(350 nm)の干渉スペクトル測定例
80
反射率(%)
分光反射率(測定値)
60
測定された反射率と理論値の反射率の差の二乗が
最も小さくなる膜厚値を求めます。
理論波形
40
20
400
500
600
波長
(nm)
800
700
膜厚が1 μm以上の膜厚測定に有効
FFT(高速フーリエ変換)による解析
30 μm
■ エタロン(30 μm) 測定例
フーリエ変換
25
6.00
強度
反射率(%)
22.5
20
4.00
17.5
2.00
15
12.5
0.00
500
8
600
700
800
波長
(nm)
900
1000
0.1
1.0
10
光学的膜厚
(μm)
100
両面解析
膜厚計測ソフトウエア 両面解析 U12708-01を使用した解析です。(特許出願中)
両面コーティングサンプルに対応する両面解析。
薄膜サンプルには、裏面にもコーティング膜を施す場合があります。この両面コーティングサンプルに通常の計測をした場合、裏面膜からの影響を考慮
していないので、フィッテイングが一致せず、正確な測定値を求めることができません。また、裏面の膜厚が変化すると測定が追従できなくなり、測定
値に大きな影響がでてしまいます。Optical Gauge では、オプションの両面解析機能を搭載することで、裏面のコーティング膜からの影響を考慮したフ
ィッティング解析が可能になり、両面コーティングサンプルでも正確な測定が可能です。
(Optical NanoGauge 膜厚計 C13027とC12562に対応)
膜厚
両面コーティングサンプル
表面コーティング膜:1層目
1
150 nm(n=2.0)
表面コーティング膜:2層目
2
100 nm(n=1.5)
基板 100 μm
(n=1.7)
裏面コーティング膜
3
1000 nm
(n=1.5)
両面解析
通常測定
赤線:測定値(シミュレーション)
青線:理論波形
150 nm
2
100 nm
膜厚解析結果
反射率
反射率
膜厚解析結果
1
3 1000 nm
400
600
800
1
143.69 nm
2
119.25 nm
3 1120.00 nm
1000
400
600
波長(nm)
800
1000
波長(nm)
表面はもとより
裏面のコーティング膜の厚さも
高い精度で測定
測定値の誤差が大きい
※解析モデルを使用したシミュレーション結果です。
裏面コーティング膜の厚さを100 nm厚くした場合
150 nm
2
100 nm
膜厚解析結果
反射率
反射率
膜厚解析結果
1
3 1100 nm
400
600
800
波長(nm)
1000
高い精度で測定
さらに裏面コーティング膜の
変化にも追従
400
600
800
波長(nm)
1
147.28 nm
2
120.06 nm
3
960.00 nm
1000
測定誤差が大きいと同時に
裏面コーティング膜の変化に追従できず
正確な数値が求められない
※解析モデルを使用したシミュレーション結果です。
9
Optical NanoGauge 膜厚計 C12562
薄膜から基板まで幅広い対象に対応
装置組み込み
1Boxタイプ
Optical NanoGauge 膜厚計 C12562は、
関連装置への組み込みを前提
に設計された非接触の膜厚測定装置です。半導体市場では貫通電極技術の採
用によりシリコン厚の測定が重要視され、
フィルム市場では接着層の薄膜化が
進み、
共に1 μm∼300 μmの範囲での高精度な厚み測定が必要とされてい
ます。C12562の測定範囲は、
0.5 μm∼300 μmと幅広く、
薄膜塗工厚から
フィルム基板厚、
さらには総厚まで測定可能です。
また、
最高100 Hzの高速
測定も可能なため、
高速ラインでの測定にも対応することができます。
対応
測定範囲
0.5 μm
300 μm
ガラス
1 μm
100 nm
10 μm
100 μm
0.5 μm∼300 μmの薄膜からシリコン基板厚まで
幅広い対象に1台で対応可能
特長
①
特長
②
特長
③
特長
④
特長
⑤
特長
⑥
薄膜から総厚までの測定に対応
タクトタイムを短縮(最速100 Hz)
外部トリガを充実(高速測定に対応)
ソフトウエアに簡易計測を追加
両面解析が可能
高さ変動に強い
仕 様
型名
測定膜厚範囲(ガラス)※1
C12562-03
500 nm∼300 μm
測定再現性(ガラス)※2※3
0.2 nm
測定精度※3※4
±0.4 %
ハロゲン光源
光源
スポットサイズ※3
約φ1 mm
ワーキングディスタンス※3
10 mm
最大10層
測定可能層数
解析
FFT解析、
フィッティング解析、光学定数解析
計測時間※5
外部通信インターフェース
3 ms/point
RS-232C、
Ethernet
電源電圧
AC100 V∼240 V、50 Hz/60 Hz
消費電力
約80 VA
ライトガイドコネクタ形状
※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。 ※2 1 μm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。
※3 使用する光学系または対物レンズの倍率による。
※4 VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。 ※5 最短露光時間。
10
FC
特長
⑦
特長
⑧
光学定数(n、k)解析
外部機器から制御
1 mm
構成例
C12562 標準システム
(インライン)
C12562 標準システム
(オフライン)
標準構成
オプション
標準構成
オプション
Optical NanoGauge 膜厚計
C12562
OPTICAL NANO GAUGE
装置制御PC
膜厚計測
ソフトウエア
C12562-01
POWER
USB3.0
USB2.0
LAN1
LAN2
MONITOR
AUDIO
LIGHT
LINE
TRIG. IN
SENSOR
RS-232C/Ethernet
膜厚計測
ソフトウエア
サンプル
OPTICAL NANO GAUGE
C12562-01
POWER
USB3.0
対象物
サンプルステージ
LAN1
LAN2
MONITOR
AUDIO
LINE
TRIG. IN
SENSOR
エッチング装置
成膜装置などの製造装置
データ解析モジュール
M11698
USB2.0
LIGHT
Optical NanoGauge 膜厚計
C12562
オプション
□ サンプルステージ FC型
A10192-04
□ 集光光学系 FC型 可視用
A10191-03
A10192-05の集光レンズ部のみのユニットです。
WD:約35 mm 測定スポット径:φ1.5 mm
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステ ージです。集光機能はありません。
WD:約10 mm 測定スポット径:φ1 mm
ペンタイプのA10192-10も用意しています。
(P7参照)
□ サンプルステージ FC型 可視用集光レンズタイプ
A10192-05
□ データ解析モジュール
M11698
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージ
です。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。
WD:約35 mm 測定スポット径:φ1.5 mm
モニタ、マウス、キーボードのみのユニットです。
□ FCレセプタクル A12187-02
架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。
□ ランプユニット L12839-01
C13027及びC12562用の交換用ランプユニットです。
□ 膜厚計測ソフトウエア 両面解析 U12708-01
両面解析に対応したソフトウエアです。
外形寸法図
(単位:mm)
■ 本体(約7.0 kg)
■ 2分岐ライトガイド
USB2.0
LAN1
LAN2
MONITOR
AUDIO
LINE
TRIG. IN
SENSOR
292±1
FCコネクタ
Φ12
6±2
408±1
SUS可とう管
Φ10
POWER
USB3.0
LIGHT
Φ20
D95Pコネクタ
C12562-01
98.5±1
OPTICAL NANO GAUGE
■ サンプルステージ FC型
A10192-04
10±1
75±1
150±1
183+30 (MAX)
53 (MIN)
27
+200
5000 −0
※ファイバの曲げ半径は、R75 mm以上になります。
2 (MIN)
52+30 (MAX)
8±1
+50
200 −0
130±1
280±1
11
Optical NanoGauge 膜厚計 C10178
基礎研究用に機能拡張性を有するスタンダードタイプ
基礎研究用
機能拡張タイプ
Optical NanoGauge 膜厚計 C10178は、
分光干渉法を利用した非接
触の膜厚測定装置です。測定は、分光干渉法により短時間で高感度・高精度
に膜厚を測定します。また、弊社製品のマルチチャンネル分光器PMAを検
出器として採用していますので、各種光学フィルタやコーティングなどの膜
厚測定と同時に、量子収率計測や反射計測、透過・吸収測定など多彩な測定
項目を計測することが可能です。
対応
測定範囲
20 nm
50 μm
ガラス
100 nm
1 μm
100 μm
10 μm
1 mm
20 nm∼50 μmの薄膜を高精度リアルタイム測定
特長
高速・高精度解析
リアルタイム測定
高さ変動に強い
光学定数(n、k)解析
外部機器から制御
①
特長
②
特長
③
特長
④
特長
⑤
特長
膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。
サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。
分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。
【原理図】
反射光
位相差
波長
強度
波長
山谷の数が増加
膜
量子収率や反射、透過・吸収
の計測が可能
⑥
膜厚小
強度
入射光
強度
基板
波長
膜厚大
仕 様
C10178-01
C10178-03(NIR:可視吸収サンプル対応)
測定膜厚範囲(ガラス)※1
20 nm∼50 μm
150 nm∼50 μm
測定再現性(ガラス)※2※3
0.01 nm
0.05 nm
測定精度※3※4
±0.4 %
±0.4 %
ハロゲン光源
ハロゲン光源
型名
光源
測定波長範囲
約φ1 mm
10 mm
ワーキングディスタンス※3
最大10層
測定可能層数
FFT解析、
フィッティング解析、光学定数解析
解析
19 ms/point
計測時間※5
有(オプション)
外部通信機能
RS-232C、
PIPE、Ethernet
外部通信インターフェース
USB 2.0
インターフェース
電源電圧
消費電力
ライトガイドコネクタ形状
※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。
※2 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。
※3 使用する光学系または対物レンズの倍率による。
※4 VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。
※5 最短露光時間。
12
900 nm∼1650 nm
400 nm∼1100 nm
スポットサイズ※3
AC100 V∼120 V/AC200 V∼240 V、
50 Hz/60 Hz
約230 VA
約250 VA
φ12スリーブ形状
構成例
C10178 標準システム
標準構成
オプション
PMA-12 マルチチャンネル分光器
2分岐ライトガイド
可視∼近赤外 2 m
A10193-02
C10027
PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER
SIGNAL INPUT
データ解析装置 ノート型
C10471-01
ハロゲン光源
L6758-11
膜厚計測
ソフトウエア
U10339-01
サンプル
サンプルステージ
オプション
□ サンプルステージ スリーブ型 A10192-01
□ 集光光学系
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステー
ジです。集光機能はありません。
スリーブ型 可視用 A10191-01
A10192-02の集光レンズ部のみのユニットです。
スリーブ型 近赤外用 A10191-02
A10192-03の集光レンズ部のみのユニットです。
□ サンプルステージ スリーブ型 可視用集光レンズタイプ A10192-02
□ LED光源 L11693-01
対応波長域:420 nm∼720 nm
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージ
です。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。
WD:約35 mm 測定スポット径:φ1.5 mm
□ サンプルステージ 近赤外用集光レンズタイプ A10192-03
□ データ解析装置 ノート型 C10471-01
φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステー
ジです。紫外から近赤外まで対応可能な集光レン
ズ付きです。
WD:約35 mm 測定スポット径:φ1.5 mm
外形寸法図
ノート型のデータ解析装置を用意しています。
(単位:mm)
■ PMA-12 マルチチャンネル分光器(約5 kg)
■ ハロゲン光源 L6758-11
(約2.6 kg)
231
115
C10027-02
(基礎研究用機能拡張モデル)
57.5
262±1
383±2
80
9.7±0.5
SIGNAL INPUT
130
99±1
C10027
PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER
C10028-01
(NIRモデル)
20
188
85
0
Φ10-0.1
15
C10028
PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER
0
.0
5
0
Φ10-0.1
Φ7
Φ18±0.2
Φ9.2
5
0
.0
50±0.2
5
50±0.2
5
.0
80±0.2
0
0
50±0.2
.0
433±2
0
Φ12-0.05
■ 2分岐ライトガイド 可視∼近赤外 2 m A10193-02
0
262±1
9.7±0.5
124±1
SIGNAL INPUT
※サンプルステージの外形寸法は、P7を参照ください。
+100
0
5
300
.0
2000 +100
0
※ファイバの曲げ半径は、R150 mm以上になります。
13
Multipoint NanoGauge 膜厚計 C11295
リアルタイム同時測定を実現したマルチポイント計測モデル
多点測定
Multipoint NanoGauge 膜厚計 C11295は、分光干渉法を利用した
膜厚測定装置です。半導体製造工程における膜厚測定をはじめ、半導体
製造装置へ搭載するAPCやフィルムの品質管理のために膜厚の測定をす
る装置です。リアルタイムでのマルチポイント計測を実現し、多チャン
バ同時計測やフィルム面上の多点計測を可能にしました。また、膜厚と
同時に反射率(透過率)・物体色、それらの経時変化も測定することがで
きます。
対応
測定範囲
100 μm
20 nm
ガラス
1 μm
100 nm
100 μm
10 μm
1 mm
薄膜製造ラインでの多チャンバ同時計測や
フィルム製造ラインでの多点測定が可能
最大15ポイントを同時計測
リファレンスフリー
光量変動補正による長時間安定測定
アラーム・ワーニング機能(合否判定)
反射(透過)
・スペクトル測定
特長
①
特長
②
特長
③
特長
④
特長
⑤
特長
⑥
特長
⑦
特長
⑧
特長
⑨
特長
⑩
高速・高精度解析
リアルタイム測定
高さ変動に強い
光学定数(n、k)解析
外部機器から制御
仕 様
型名
C11295-XX※1
測定膜厚範囲(ガラス)※2
20 nm∼100 μm
測定再現性(ガラス)※3※4
0.02 nm
測定精度※4※5
±0.4 %
Xe光源
光源※6
測定波長範囲
320 nm∼1000 nm
【原理図】
反射光
FFT解析、
フィッティング解析
19 ms/point
計測時間※7
Ethernet
外部インターフェース
USB 2.0(本体-PC間)、RS-232C(ランプ-PC間)
電源電圧
AC100 V∼240 V、50 Hz/60 Hz
消費電力
2ch時:約330 VA∼15ch時:約450 VA
ライトガイドコネクタ形状
計測ポイント
※1 -XXは、
計測ポイント数を示す。 ※2 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。
※3 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。
※4 使用する光学系または対物レンズの倍率による。
※5 VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。
※6 ハロゲン光源モデルは、
C11295-XXHとなります。
※7 最短露光時間。
SMA
2点∼15点
膜厚小
強度
入射光
位相差
波長
強度
波長
山谷の数が増加
最大10層
測定可能層数
14
分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。
10 mm
ワーキングディスタンス※4
インターフェース
サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。
約φ1 mm
スポットサイズ※4
解析
膜厚測定には、分光干渉法を採用。
膜
基板
強度
波長
膜厚大
多点計測方式
■ 多検出器方式とファイバ分岐方式との比較イメージ図
Multipoint Optical NanoGauge
標準的な膜厚測定器
Y型分岐ファイバ
■ 多検出器方式
■ ファイバ分岐方式
光源
光源
検出器
検出器
多分岐ファイバ
計測に時間差が生じる
同時計測が可能
測定画面
フィルムの膜厚モニタ
カラーフィルムの物体色モニタ
計測モードの選択
膜厚 / 反射率 / 物体色
モニタ画面
モニタ中の
アラームや
ワーニング
設定が可能
各検出器の測定データ
測定値の
トレンドデータ
警告画面
構成例
オプション
□ データ解析装置 ノート型 C10471-21
C11295-03 標準システム
ノート型のデータ解析装置を用意しています。
Xe光源
※
POWER
Multipoint NanoGauge 膜厚計
C11295
データ解析装置 ノート型
C10471-21
□ SMAレセプタクル A12187-01
サンプル
膜厚計測
ソフトウエア
標準構成
オプション
※ハロゲン光源モデルも用意しています。
外形寸法図
架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。
(単位:mm)
■ 本体(約6 kg)
442
308
■ 光源ライトガイド
500
(50.3)
20.3
+30
0
50
1000
+50
0
SMAコネクタ
φ26
36
12.7
φ8
■ Xe光源
(約6.4 kg)
φ4.8
15
ー0.02
ー0.10
4
φ6
123.5
0
ー0.1
30
※ファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。
30
■ 計測ライトガイド
SMAコネクタ
SMAコネクタ
+100
0
100
10 000
+200
0
39.5
232
311
39.5
※ファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。
φ5.6
16
φ5.6
110
142
5
16
φ20
158
227
1000
15
Optical NanoGauge 膜厚計 C10323
微小領域での薄膜測定を行う顕微タイプ
ミクロ計測
顕微タイプ
Optical NanoGauge 膜厚計 C10323は、
分光干渉法を利用した顕微
タイプの膜厚測定装置です。顕微鏡を用いて微小領域での測定を行うこと
ができます。マクロ計測では、
散乱光が多くて受光しにくい凸凹表面の対象
も、
微小エリアを計測することで散乱光を減らし測定することが可能です。
対応
測定範囲
20 nm
50 μm
ガラス
1 μm
100 nm
100 μm
10 μm
1 mm
微小領域の薄膜を顕微鏡を用いて高精度リアルタイム測定
特長
①
特長
②
特長
③
特長
④
ミクロ計測
高速・高精度解析
光学定数(n、k)解析
外部機器から制御
膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。
サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。
分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。
【原理図】
反射光
膜厚小
強度
入射光
位相差
波長
強度
波長
山谷の数が増加
膜
強度
基板
型名
C10323-01
測定膜厚範囲(ガラス)※1
20 nm∼50 μm
測定再現性(ガラス)※2※3
0.02 nm
測定精度※3※4
ワーキングディスタンス
ハロゲン光源
400 nm∼1100 nm
φ8 μm∼φ80 μm
散乱光
最大10層
FFT解析、
フィッティング解析、光学定数解析
マクロ計測
RS-232C、
PIPE 及び Ethernet
USB 2.0
インターフェース
従来のマクロ計測では計測が困難であった凹凸のあるパターン付
電源電圧
AC100 V∼120 V/AC200 V∼240 V、50 Hz/60 Hz
ウェーハやMEMSなどのサンプルも、顕微システムでは測定する
消費電力
約265 VA
ことができます。凹凸のあるサンプルの場合、
マクロ計測では散乱
※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。 ※2 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。
※3 使用する光学系または対象レンズの倍率による。
※4 VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。
光が多く、受光できない場合もあります。顕微システムによるミク
ロ計測では、測定箇所を散乱光の少ない平坦な領域に絞り込み、
測定することができます。
16
顕微によるミクロ計測
有(オプション)
外部通信機能
外部通信インターフェース
散乱光
散乱光
対物レンズ表参照
測定可能層数
解析
顕微鏡
対物レンズ
±0.4 %
光源
スポットサイズ※3
膜厚大
顕微システムの原理とメリット
仕 様
測定波長範囲
波長
構成例
オプション
□ データ解析装置 ノート型 C10471-01
C10323-01 標準システム
ノート型のデータ解析装置を用意しています。
標準構成
オプション
モニタ
PMA-12
マルチチャンネル分光器
C10027-02
PMA-11
PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER
SIGNAL INPUT
データ解析装置 ノート型
C10471-01
POWER
対物レンズ
5×∼50×
顕微光学系
ステージ
A10407-01
膜厚計測
ソフトウエア
ハロゲン光源
L6758-11
□ 対物レンズ
レンズ倍率
測定スポットサイズ
NA
WD
5倍
φ80 μm
0.14
37.5 mm
10倍
φ40 μm
0.26
30.5 mm
20倍
φ20 μm
0.40
20.0 mm
50倍
φ8 μm
0.42
17.0 mm
□ 顕微光学系ステージ A10407-01
(ステージ移動範囲:75 mm × 50 mm)
□ 顕微光学系ステージ 6インチウェーハ用 A10407-02
外形寸法図
(ステージ移動範囲:150 mm × 150 mm)
(単位:mm)
■ 顕微光学系 A10406-01
(約15 kg)
■ 顕微光学系ステージ A10407-01
114±5
227
181
140.5
630±10
φ34
167±50
134
40±5
84
134
262±5
25.5
■ 顕微光学系ステージ 6インチウェーハ用 A10407-02
205
362±5
φ34
174
111
186
174
129
251±5
317
40
45
※PMA-12 マルチチャンネル分光器 C10027-02とハロゲン光源 L6758-11の外形寸法は、P13を参照ください。
関連製品 ミクロ光学系 A13097
スポットサイズを絞り、界面粗さや散乱サンプル、膜厚ムラに対応
ミクロ光学系 A13097は、広い視野域では測定が困難なサ
測定膜厚範囲(ガラス)※1
C13027やC12562と組み合わせることにより、スポット径
測定再現性(ガラス)※2※3
0.2 nm
をφ100 μmに絞ることができ、
測定が困難であった界面粗さ
測定精度※3※4
±0.4 %
や散乱の大きなサンプル、
パターン上の微小エリア測定などが
ミクロ光学系 A13097-01
■ C13027とA13097を組み合わせた場合の仕様
ンプルに対応する光学系です。Optical NanoGauge 膜厚計
光源
測定波長範囲
0.1 μm∼100 μm
ハロゲン光源
700 nm∼1100 nm
可能になります。高さ変動にも強い光学系のため、様々な製造
スポットサイズ※3
現場での測定を実現しました。オフライン用のサンプルステー
ワーキングディスタンス※3
32 mm
高度変動
±2 mm
ジタイプも用意しています。
最大繰り返し周波数
計測時間※4
ライトガイドコネクタ形状
φ100 μm
200 Hz
3 ms/point
FC
※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。 ※2 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。
※3 使用する光学系または対物レンズの倍率による
※4 C13027使用時
ミクロ光学系 A13097-11
17
Optical MicroGauge 厚み計 C11011
2.9 mmまで測定できるインライン対応の高速測定モデル
厚膜対応
高速測定
Optical MicroGauge 厚み計 C11011シリーズは、
レーザ干渉法を利用
した厚み測定装置です。60 Hzの高速測定を実現し、
生産現場でのインライン
測定にも対応します。
また、
オプションのマッピングシステムにより試料の厚み
分布を測定することも可能です。製品の製造工程モニタから品質管理まで、
幅
広い用途にご利用頂けます。
2200 μm 2900 μm
25 μm
対応
測定範囲
10 μm
ガラス
シリコン
900 μm 1200 μm
1 μm
10 μm
100 μm
1 mm
ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定
赤外光計測により、非透明(白色)サンプルに対応
60 Hzの高速測定
パターン付/保護フィルム付ウェーハの測定可能
ロングワーキングディスタンス
マッピングに対応
外部機器から制御
特長
①
特長
②
特長
③
特長
④
特長
⑤
特長
⑥
仕 様
型名
C11011-01
C11011-01W
測定膜厚範囲(ガラス)※1
25 μm∼2200 μm
25 μm∼2900 μm
測定膜厚範囲(シリコン)※2
10 μm∼900 μm
10 μm∼1200 μm
測定再現性(シリコン)※3
測定精度※3
光源
±0.5 μm(500 μm未満)、
±0.1 %(500 μm以上)
赤外LD(1300 nm)
φ60 μm
ワーキングディスタンス※4
解析
計測時間※5
外部通信インターフェース
インターフェース
155 mm
1層(多層膜対応可能)
ピーク検出
16.7 ms/point
22.2 ms/point
RS-232C 及び PIPE
USB 2.0
(本体-PC間)
電源電圧
AC100 V∼AC240 V、
50 Hz/60 Hz
消費電力
約50 VA
ウェーハ
・SiC膜・Si膜・ウェット状態の膜
・シリコン残膜厚・光ディスク
FPD
■ パネル厚測定
※1 ガラスの屈折率に相当。
※2 シリコンの屈折率に相当。
※3 シリコン測定時の標準偏差
※4 ワーキングディスタンスが1000 mmのタイプも用意しています。
(型名 C11011-01WL) ※5 最短露光時間
・セルギャップ・ガラス総厚
・DLC・FPD用高機能フィルム
18
フィルム
■ 光学フィルムの厚み測定
100 nm
スポットサイズ
測定可能層数
半導体
■ ウェーハ厚測定
■ PVパネル用シリコン厚測定
・AR膜・PET・コーティング層
・塗布膜・蒸着膜・機能性フィルム
・アクリル樹脂・ビデオヘッド
構成例
C11011-01、-01W 標準システム
C11011-01、-01W 厚み分布測定用マッピングシステム
計測用光ファイバ
プローブ
ヘッド
(標準)
計測用光ファイバ
標準構成
オプション
ウェーハマッピング
ソフトウエア
標準構成
オプション
ウェーハマッピング
ソフトウエア
プローブ
ヘッド
(標準)
USB 2.0
USB 2.0
対象物
エッチング装置
グラインディング装置
Optical MicroGauge 厚み計
C11011-01、-01W
RS-232C / PIPE
データ解析装置
C9025-02
Optical MicroGauge 厚み計
C11011-01、
-01W
USB 2.0
マッピングステージ
C8126-21、-22
データ解析装置
マッピング計測用
C9025-11
測定原理
膜厚測定には、レーザ干渉法を採用。
プローブヘッドから照射された近赤外光は、まず膜表面で反射されます。光の一
部は膜を透過し反対側の界面で反射します。各反射光がコントローラ内部で処理
され、反射が生じた位置、すなわち膜の界面が検出されます。それらのピーク間
距離から厚みが計算されます。
■ In-situモニタリング例 (ウェットエッチング下)
プローブヘッド
入射光
界面からの反射
ピーク間距離
基板
膜厚
=
膜
■ 張り合わせウェーハ測定例
■ ウェーハ厚み分布測定例
厚み計測データ
計測データ
Thickness (m)
400
300
200
▲ 厚さ70 μm∼76 μmの分布を表示
サンプル:8型 シリコンベアウェーハ
保護フィルム付/グラインディング処理後
100
0
0
100
200
300
400
500
Time (second)
オプション
□ プローブヘッド(耐酸性) A8653-02
□ マッピングステージ φ200 mm C8126-21
マッピングステージ φ300 mm C8126-22
● 計測時間:1 s/point
● 測定エリア :最大140 mm角(C8126-21)
4型(インチ)ウェーハ∼8型(インチ)ウェーハ
:最大200 mm角(C8126-22)
4型(インチ)ウェーハ∼12型(インチ)ウェーハ
● ステージ移動分解能 : 0.1 mm
● ステージ繰り返し位置決め精度:±0.01 mm
耐酸性用に表面処理されたプローブヘッド
です。ウエットエッチング装置搭載用に推
奨しています。
□ 水平設置用光学系 A9925-01
プローブヘッドに接続させて使用します。
ワーキングディスタンスがとれない狭い箇
所にヘッドを設置したい時に有効です。
□ データ解析装置 C9O25-01
デスクトップ型のデータ解析装置を用意しています。
□ データ解析装置 マッピング計測用 C9O25-11
ウェーハマッピング時用のデスクトップ型のデータ解析装置を用意しています。
□ データ解析装置 C9O25-02
ノート型のデータ解析装置を用意しています。
□ データ解析装置 マッピング計測用 C9O25-11
ウェーハマッピング時用のノート型のデータ解析装置を用意しています。
(単位:mm)
■ C11011-01、-01W
(約8.5 kg)
WD=155±2
13.9
95.8±2
φ34±0.5
383±1
φ15±0.3
123.5±1
412±1
5.9±1
■ プローブヘッド
(標準) A8653-01
φ19±0.3
外形寸法図
計測用光ファイバ
(4 m)
※ファイバの曲げ半径は、R30 mm以上になります。
19
オプション製品 マッピングステージ C8126シリーズ
Optical Gaugeと組み合わせウェーハ・フィルムの厚み分布をマッピング
マッピングステージ C8126シリーズは、各種Optical Gaugeシ
リーズと組み合わせることにより、
ウェーハやフィルムの面内厚み分布
測定を行うマッピングシステムです。エッチング・グラインディング特性
の面内均一性確認や品質管理にご利用いただけます。
測定対象(測定範囲)
型名
マッピングステージ φ200 mm
C8126-21
マッピングステージ φ300 mm
C8126-22
マッピングステージ φ200 mm
C8126-31
マッピングステージ φ300 mm
C8126-32
組み合わせ対応
厚み計・膜厚計
ウェーハ(型:インチ)
フィルム※
4∼8
∼140 mm 角
4 ∼12
∼200 mm 角
4∼8
∼140 mm 角
4∼12
∼200 mm 角
C11011-01
C11011-01W
特長
①
特長
C13027-11
※フィルム測定時のステージユニットの仕様については、
弊社までお問い合わせください。
※16型
(インチ)
ウェーハ対応については、
弊社までお問い合わせください。
②
特長
③
厚み分布測定が可能
パターン付きウェーハ対応
保護フィルム付きウェーハ対応
C8126-21、-22(C11011シリーズ対応)
C8126-31、-32(C13027-11対応)
データ解析装置 ノート型
C10471-21
Optical MicroGauge 厚み計 C11011-01、
-01W
USB 2.0
プローブ
ヘッド
(標準)
A8653-01
測定用光ファイバ
ウェーハマッピング
ソフトウエア
ウェーハ
マッピング
ソフトウエア
RS-232C/Ethernet
ウェーハ
ステージユニット
標準構成
オプション
型名
ステージ移動分解能
ステージ繰り返し位置決め精度
電源電圧※1
消費電力
外形寸法/質量
データ解析装置
マッピング計測用
インターフェース C9025-11
(USB 2.0)
Optical NanoGauge 膜厚計
C13027-11
ステージユニット
標準構成
オプション
C8126-21、-31
C8126-22、-32
0.1 mm
±0.01 mm
AC100 V∼AC117 V、AC220 V∼AC240 V、50 Hz/60 Hz
120 VA(100V 時)、160VA
(200 V時)
820 mm(W)×550 mm(H)×600 mm(D) 約67 kg
940 mm(W)×595 mm(H)×750 mm(D) 約82 kg
※ステージユニットの詳細仕様については、弊社までご相談ください。
※1 100 V系統と200V 系統のどちらかを選択することができます。
☆Windowsは米国Microsoft Corporationの米国、日本およびその他の国における登録商標または商標です。
その他記載商品名・ソフト名は該当商品製造会社の商標または登録商標です。カタログ上での記載は省略させていただきます。
※本カタログの掲載内容は、2016年2月現在のものです。本内容は改良のため予告なく変更する場合があります。
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FEB/2016