配布資料

半導体事業戦略
2010年8月18日
富士電機ホールディングス株式会社
Copyright © 2010 Fuji Electric Holdings Co., Ltd. All rights reserved.
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1.事業概要
2.市場動向
3.事業方針・成長戦略
4.設備投資・研究開発
5.業績動向・目標
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事業概要
産業分野
パワー IC
IGBT モジュール
自動車分野
用 途
電源分野
圧力センサ
IGBT IPM
適 用 製 品
イグナイタ
MOSFET
特長
・業界最先端の高速・低損失特性
と高破壊耐量(第6世代IGBT)
・高信頼性を実現するPKG技術
・市場要求に応える高い信頼性技術
・第6世代IGBT適用による低損失で
高効率特性
・高エネルギー耐量(イグナイタ)
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・機器の小型化・省エネに貢献
する業界トップレベルの低損失・
高効率特性。
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1.事業概要
2.市場動向
3.事業方針・成長戦略
4.設備投資・研究開発
5.業績動向・目標
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パワー半導体市場の動向
2010年~平均伸長率
4.5%
半導体市場全体:
パワー半導体市場全体: 5.3%
7.0%
当社該当市場:
10.6%
IGBT市場:
パワー半導体市場全体
(億円)
20,000
サイリスタ
バイポーラトランジスタ
当社該当市場
パワーダイオード
MOSFET
16,200
IGBT
15,000
15,400
14,600
13,900
(+23%)
12,500
11,900
11,300
(+7%)
10,600
10,000
5,400
6,600
5,800
8,100
5,100
4,700
5,000
7,000
7,500
(+29%)
(+9%)
0
2007年
当社該当市場:
2008年
2009年
IGBT:全て
MOSFET:耐圧200V以上及び200V未満の車載用
パワーダイオード:SBD及びFRD
2010年
2010年
(年初予想)
(今回見直)
2011年
2012年
2013年
Data Sourse: WSTSをベースに富士電機推定
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1.事業概要
2.市場動向
3.事業方針・成長戦略
4.設備投資・研究開発
5.業績動向・目標
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事業方針・成長戦略
基本戦略
目標
●「エネルギー・環境」分野における大容量パワー半導体の拡大に加え、
小容量分野への参入を目指す
●海外売上・海外生産の拡大(地産地消)
●IGBTでNo.1を目指す
2011年度売上高:中期計画900億円 ⇒ 1,000億円を目指す。
販売施策
・地域ニーズ・特性に合わせた商品の開発、展開
・中国・欧州を中心にセールスエンジニア投入、テクニカルセンター連携
ものつくり
施策
・国内生産子会社統合効果の抽出と海外生産拡大
・市場急拡大に対応する生産体制強化(新クリーンルーム、新組立拠点)
開発施策
・注力分野(エネルギー・環境,自動車)にリソースを集中
・次世代デバイス(SiC、GaN)の製品化、量産技術の確立
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事業方針・成長戦略 【狙う市場とシェア(IGBT)】
●市場規模や伸長率の高い、新エネルギー、インフラ 及びEV/HEVでのシェア
アップを狙う
●FA(設備関連)は市場回復により、高シェアの回復・維持を目指す
IGBTモジュールの主要分野別
市場規模及び当社推定シェア
(億円)
1,600
WW市場('08シェア)
30.0%
09年度市場規模
注力分野
新規参入分野
13年度市場規模
09年度推定シェア
1,200
25.0%
20.0%
IXYS
Vincotech
東芝
Danfoss
IR
ファアチャイルド
日立
三洋
800
その他
三菱
15.0%
富士電機
10.0%
Semikron
400
Infineon
5.0%
0
0.0%
FA
インフラ
電鉄
新エネルギー
民生
電源・UPS EV/HEV
Data Sourse: IMS Research
Data Sourse: IMS Research、CSMをベースに富士電機推定
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事業方針・成長戦略 【狙う市場(IGBT)】
大電流(A)
風力発電
拡大市場_
(大容量・高耐圧)→
電鉄
EV/HEV
メガソーラー
家電
インバータ
ロボット
UPS
サーバ
←当社従来市場
←新規参入市場(小容量)
高電圧(V)
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事業方針・成長戦略 【新エネルギー向けIGBT】
ターゲット市場
ターゲットエリア
風力発電、メガソーラー
欧州、米州、中国
施 策
大容量IGBT(~3,300V、3,600A)の製品系列の拡大
RB-IGBT*新技術の適用
*RB-IGBT(新3レベル逆阻止モジュール)
特長:
変換回路の損失発生を大幅に抑制
特に変換効率が重要になる太陽光
発電用パワーコンディショナー等で
は発生損失が低減可能。
損失(W)
UPSに使用した場合の損失改善
3,500
約15%
改善
3,000
約10%
改善
2,500
2,000
1,500
1,000
500
0
2レベル
従来3レベル
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新3レベル
RB-IGBT
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事業方針・成長戦略 【EV/HEV向けIGBT】
ターゲットエリア
ターゲット市場
EV、HEVのモーター制御,充電装置
など
日本、中国
施 策
第6世代IGBT技術を適用した低損失で小型・高放熱のモジュール*を開発し展開する
*小型・高放熱のモジュール
Æ
電流当りの面積を
約半分に縮小
(注: PKGの面積は 最外郭を
2 in 1 従来品
周にとる長方形として計算)
6 in 1 新製品
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事業方針・成長戦略 【グローバル展開】
●販売注力拠点である中国、欧州におけるニーズに合った商品を開発・展開
●注力地域での生産拠点の設置検討
欧州:
検討中
中国:
検討中
フィリピン:
移管完了
マレーシア:
移管中
販売拠点
(既存)
生産拠点
(既存)
生産・販売拠点
(既存)
新規生産拠点(エリア)
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1.事業概要
2.市場動向
3.事業方針・成長戦略
4.設備投資・研究開発
5.業績動向・目標
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設備投資・研究開発
● 海外生産比率向上に向け、海外での投資を加速する
● 「エネルギー・環境」分野、次世代デバイスの開発に重点を置く
《研究開発》
《設備投資》
(億円)
160
140
135
海外
国内
120
120
100
100
その他
次世代
エネルギー・環境
70
80
100
60
80
60
(億円)
120
45
75
59
40
40
20
20
0
0
2009年度
2010年度予想
2010年度予想
(10.5.15発表) (10.7.30発表)
(2010年)
当初計画100億円→見直し120億円
(2011年)
前工程新クリーンルーム、後工程新拠点
(中期計画の前倒し検討)
2011年度 中期計画
(10.2.25発表)
2009年度
2010年度予想
2011年度中期計画
(10.7.30発表)
※変更なし
(10.2.25発表)
(2010年主要開発テーマ)
エネルギー:大容量モジュール開発
環境:EV/EHV用デバイス開発、第6世代系列拡大、
高性能ディスクリート開発、小容量モジュール開発
次世代:SiC、GaN開発(グループ全体取り組み)
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次世代SiCデバイスへの取り組み
次世代SiC研究開発を加速しニーズに対応
◆産業技術総合研究所内にSiC専用ラインを
新設し、設備等立上げ完了。試作開始。
◆サンプル展開
SBD:
2010年度中
MOSFET: 2011年度中
◆量産化
特徴
メリット
高耐圧
低抵抗
高速動作
機器小型化
低消費電力
高効率電力変換
アプリケーション
SBD:
2011年4月開始
MOSFET: 2012年4月開始
想定削減効果
(Si IGBTを100%とした場合
当社推定)
サーバ電源
損失 △ 35%
汎用・高圧
インバータ
損失 △ 60%
体積△ 75%
UPS
損失 △ 60%
体積△ 40%
EV
損失 △ 50%
車両
損失 △ 50%
体積△ 50%
(独)産業技術総合研究所殿との
共同開発中のSiC MOSFET
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1.事業概要
2.市場動向
3.事業方針・成長戦略
4.設備投資・研究開発
5.業績動向・目標
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業績動向・目標
<2011年度 中期目標>
売上高1,000億円、営業利益100億円を目指す
(億円)
1,200
1,000
自動車
産業
電源
1,000
900
880
830
800
700
600
400
200
売上
-200
50
-40
0
60
営利
売上
2009年度
営利
2010年度予想
(2010.5.15発表)
売上
営利
2010年予想
(2010.7.30発表)
100
60
売上
営利
2011年度中期計画
(2010.2.25発表)
売上
営利
2011年度中期目標
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注 記
1.
本資料および本説明会に含まれる予想値および将来の見通しに関する記述・
言明は、弊社が現在入手可能な情報による判断および仮定に基づいておりま
す。その判断や仮定に内在する不確実性および事業運営や内外の状況変化
により、実際に生じる結果が予測内容とは実質的に異なる可能性があり、弊社
は、将来予測に関するいかなる内容についても、その確実性を保証するもので
はありません。
2.
本資料は、情報の提供を目的とするものであり、弊社の株式の売買を勧誘す
るものではありません。
3.
目的を問わず、本資料を無断で引用または複製することを禁じます。
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